統懋半導體股份有限公司新市總廠
統一編號：22404266
共 6 筆罰單記錄 (顯示第 1 - 6 筆)
- 裁罰機關
- 環保署
- 處分日期
- 2018/08/08
- 罰鍰金額
- NT$150,000
- 違反法條
- 土壤及地下水污染整治法第40條第3項
- 違規情節
- 臺南市環保局106年12月13日執行「105年臺南市地下水高污染潛勢區污染查證及監測計畫」查證結果，土壤：順-1,2-二氯乙烯7.17毫克/公斤（管制標準7毫克/公斤）。地下水：氟鹽27.1毫克/公升（管制標準8.0毫克/公升）、氯乙烯0.234毫克/公升（管制標準0.02毫克/公升）、1,1-二氯乙烯0.0805毫克/公升（管制標準0.07毫克/公升）、順-1,2-二氯乙烯1.72毫克/公升（管制標準0.7毫克/公升）、三氯乙烯0.209毫克/公升（管制標準0.05毫克/公升），並符合土壤及地下水污染場址初步評估暨處理等級評定辦法第8條第1項第1款規定。
- 裁罰機關
- 環保署
- 處分日期
- 2018/08/02
- 罰鍰金額
- NT$150,000
- 違反法條
- 土壤及地下水污染整治法第40條第3項
- 違規情節
- 臺南市環保局106年12月13日執行「105年臺南市地下水高污染潛勢區污染查證及監測計畫」查證結果，土壤：順-1,2-二氯乙烯7.17毫克/公斤（管制標準7毫克/公斤）。地下水：氟鹽27.1毫克/公升（管制標準8.0毫克/公升）、氯乙烯0.234毫克/公升（管制標準0.02毫克/公升）、1,1-二氯乙烯0.0805毫克/公升（管制標準0.07毫克/公升）、順-1,2-二氯乙烯1.72毫克/公升（管制標準0.7毫克/公升）、三氯乙烯0.209毫克/公升（管制標準0.05毫克/公升），並符合土壤及地下水污染場址初步評估暨處理等級評定辦法第8條第1項第1款規定。
- 裁罰機關
- 臺南市
- 處分日期
- 2018/02/12
- 罰鍰金額
- NT$100,000
- 違反法條
- 空氣污染防制法第21條
- 違規情節
- 依據溫室氣體減量及管理法（以下簡稱溫管法）第16條第1項暨環保署105年1月7日公告「第一批應盤查登錄溫室氣體排放量之排放源」規定，貴公司新市總廠為半導體業具有積體電路晶圓製造程序，屬該公告公告事項：1公告之排放源，應依公告事項：2規定於106年8月31日前完成105年度全廠（場）溫室氣體盤查登錄作業。經本府環境保護局查核，貴公司新市總廠未依限於106年8月31日前完成105年度全廠（場）溫室氣體盤查登錄作業，違反溫管法第16條第3項暨溫室氣體排放量盤查登錄管理辦法第4條第1項規定，遂依溫管法第31條第2項規定以106年9月7日以環空第1060088891號函，限期於同年10月31日前完成補正，惟迄至106年11月02日本府環境保護局派員前往現場稽查（紀錄單編號：0001）貴公司仍未完成補正作業，顯已違反溫管法31條第2項規定。
- 裁罰機關
- 臺南市
- 處分日期
- 2015/12/09
- 罰鍰金額
- NT$60,000
- 違反法條
- 毒性化學物質管理法第13條第4項
- 裁罰機關
- 臺南市
- 處分日期
- 2015/03/31
- 罰鍰金額
- NT$6,000
- 違反法條
- 廢棄物清理法第31條第1項第2款
- 裁罰機關
- 臺南市
- 處分日期
- 2011/04/15
- 罰鍰金額
- NT$80,000
- 違反法條
- 放流水標準第2條，水污染防治法第7條第1項